1.芯片（piàn）廠酸性廢氣概述

隨著科技進度，我國芯片製造行業飛速發展（zhǎn），行業技術日新月（yuè）異，產品規模持（chí）續走高。芯片在（zài）製造工藝（yì）中使用各種酸液清洗、刻蝕芯片等過程中產生HF、HCl、硫酸霧等酸性氣（qì）體（tǐ）。對於芯片廠企業在生產（chǎn）工藝過程中產生的腐蝕性氣體（如酸（suān）、堿性廢（fèi）氣）的（de）治理（lǐ），目前大多企業采用液體吸收法治理，采用（yòng）液體吸收法治理（lǐ）該廢氣，關鍵在（zài）於廢（fèi）氣（qì）淨化設（shè）備的選擇。酸性廢氣（qì）治理通常采（cǎi）用噴淋塔，通過酸（suān）堿中和反（fǎn）應來（lái）淨化酸性氣（qì）體。

2.噴淋塔工作原理

噴淋塔淨化原理是將氣體中的汙染（rǎn）物質分離出來，轉化為無害物質，以達到淨化氣體的目的。它屬於微分接觸（chù）逆流式（shì），塔體內的填料是氣液兩相接觸的基本構件，塔體（tǐ）外部的氣體進入塔體後，氣體進入（rù）填料層，填料層上有來自於頂部噴淋液體（tǐ）及前麵的噴淋（lín）液體，並在（zài）填料上形（xíng）成一層液膜（mó），氣體流經填（tián）料空隙時，與（yǔ）填料液膜接觸並進行吸（xī）收或（huò）綜合反應，填料層能提供足夠大的表麵積，對（duì）氣體流動又不致於造成過大的阻力，經吸收或綜合後的氣體經除霧器（qì）收集後，經出風口排出塔外。

3.芯（xīn）片廠廢氣（qì）處理工藝說明

生產車（chē）間酸洗池酸霧廢氣經風（fēng）罩收集，經管（guǎn）道再進入酸性廢氣淨化設備，酸霧（wù）淨化塔體放置二層（céng）填料層並（bìng）配（pèi）置二級水浴裝置，並在循環水池內加氫氧化鈉（簡稱堿），以中和廢氣中的酸霧，酸霧處理塔的（de）上端噴頭噴出吸收液均勻分布在填料上，廢（fèi）氣與吸收液（yè）在填料表麵上充分接觸，由於填料的機械（xiè）強度大、耐腐蝕、空隙率高、表麵大的特點，廢氣與吸收液在填料表麵有較多的接觸麵積和（hé）反應時間（jiān）。淨化後的（de）氣體（tǐ）會飽（bǎo）含水份經過塔頂的除霧裝置去除水份後（hòu）直接（jiē）排放大氣（qì）中。

4.噴（pēn）淋（lín）塔應用範圍

酸性廢（fèi）氣淨化設備廣泛（fàn）用於電子、化工、電鍍、五金、製藥、印染（rǎn）、半導體製造等行業中產生的有害廢氣，如：鹽（yán）酸（suān）（HCI)、氟化氫氣體（HF）、氨氣（NH3）、硫酸（suān）霧（H2SO4)、鉻酸霧（CrO3)、氫氰酸氣體（HCN)、堿蒸汽（NaOH)、硫化氫氣體（H2S)、福爾（ěr）馬（mǎ）林（HCHO）等水溶性氣體。