1.UV光解廢氣處理器（qì）簡述

UV光（guāng）解廢氣處理器是指利用高能UV紫外線（xiàn）光束分解空氣中的氧分（fèn）子產生（shēng）遊離氧（即活性氧），因遊離氧所攜帶正負電子不平衡（héng）所（suǒ）以需與氧分子結（jié）合，進而產生（shēng）臭氧（yǎng），臭（chòu）氧具有很強的氧化（huà）性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳。

2.UV光解廢氣處理技術原理

（1）利用特製的高能UV紫外線光束照射惡臭氣（qì）體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫（liú）化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化（huà）物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的（de）分子鏈結構，使有機或無機（jī）高分子惡臭化（huà）合（hé）物分子（zǐ）鏈，在高能紫（zǐ）外線光束照射下，降解轉（zhuǎn）變成低分子（zǐ）化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊（yóu）離氧，即活性氧，因遊離氧所攜帶正負電子不（bú）平衡所以需與（yǔ）氧分（fèn）子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭（chòu）氧對有機物具有很強的氧化作用，對（duì）惡臭（chòu）氣體及其它（tā）刺激性異味有立竿見（jiàn）影的清除效果。

（3）有機（jī）廢氣、惡臭氣體利用排（pái）風設備輸入到（dào）UV光解廢氣（qì）淨化設備後，UV光解廢氣淨化（huà）設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣（qì）體進行協同分解氧化反應，使（shǐ）惡臭（chòu）氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二（èr）氧化碳，再通過排風管道排出室（shì）外。

（4）利用高能UV光束裂解惡臭氣體中（zhōng）細（xì）菌的分子鍵（jiàn），破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭（chòu）氧進（jìn）行氧化反應，徹底達到有效脫臭及殺滅細菌的目的。

3.UV光解廢氣處理器優勢

（1）高效除惡臭：能高效去（qù）除揮（huī）發性有機物(VOC)、無機物、硫（liú）化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染（rǎn）物，以及各種惡臭味氣體，脫臭效率可達到95%以上，脫臭效（xiào）果超（chāo）過國家1993年頒布的惡（è）臭汙染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣汙染（rǎn）物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無需（xū）預處理：有（yǒu）機氣（qì）體無需進行特（tè）殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環（huán）境溫度在-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-11範圍均可正常工作。

（2）無需添加任何物質（zhì）：隻需要（yào）設置相應的排風管道和排（pái）風動力，使（shǐ）惡臭（chòu）氣體以及工業（yè）廢氣通（tōng）過UV光解（jiě）廢氣淨化設（shè）備進行脫臭（chòu）分解淨化，無需添加任何物質參（cān）與化學反應（yīng）。

（3）適應性（xìng）強：可適應（yīng）中低（dī）濃度，不同工業廢氣物質的脫臭、淨化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠（kào）。

（4）運行成本低：無任何機械動（dòng）作，無噪（zào）音，無需專人管理和日常維護（hù），隻需（xū）作定期檢查，設備能耗低，設備風阻低<50pa,可節約大（dà）量排風動力能耗。

（5）安全（quán）可靠：因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防（fáng）爆、防腐蝕性能高（gāo），設備性能安全穩定，特別適用於采油(氣（qì）)田（tián）、石油化工（gōng）、製藥等防（fáng）爆（bào）要求高的行業。

4.UV光解（jiě）廢氣處（chù）理器應用範圍

印刷、印染、電子、塑料、塗料、噴塗、家具、橡膠、化工、造紙、皮革、製藥（yào）、食品加工、飼料、屠宰、汙水處理（lǐ）、垃圾分揀及中轉等行業及領域的（de）惡（è）臭氣體、工業（yè）廢氣的淨化處理。