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UV光解除臭設備原理
來源: | 發布日期:2021-10-11 | 瀏覽次數: |

UV光解除臭設備是利用(yòng)高能UV紫外線光(guāng)束分解空氣中的氧分子產生遊離氧(即活性氧),因遊離氧所攜帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進(jìn)而產生臭氧,臭氧具有很強的氧化性,通(tōng)過臭(chòu)氧對惡臭氣體進(jìn)行協同光解氧化作用,使惡臭氣體物(wù)質降解轉化成無害的低分(fèn)子化合物、水和二氧化碳。

1.UV光解除臭設(shè)備原理

(1)UV光(guāng)解(jiě)除臭設備利用特製的高(gāo)能UV紫外線光束照射惡臭(chòu)氣(qì)體,改變惡臭(chòu)氣體物質的分子鏈結構,使有機或無機高分(fèn)子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變(biàn)成低分子化合物,如CO2、H2O等。

(2)同時UV光解除臭設備的高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧,即活性氧,因遊(yóu)離氧所攜帶(dài)正負電子不平衡所以(yǐ)需與氧分子結合,進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭(chòu)氧),臭氧對惡臭(chòu)氣體異味有立竿見影的清除效果。

(3)惡臭氣體由通風管道輸入到UV光解除臭設備後,UV光(guāng)解除臭設備利用高能(néng)UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同(tóng)分解氧化(huà)反應,使惡臭氣體物質其(qí)降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,徹底達到有效脫臭及殺滅細菌的(de)目的,再通過排風管道排出室外。

UV光解除臭(chòu)設備原理

UV光解除臭設備

2.UV光解除(chú)臭設備優勢

(1)高(gāo)效除惡臭:能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染物,以及各種惡臭味氣體,脫臭效率可達到95%以(yǐ)上,脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭汙染物排(pái)放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣汙染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無(wú)需預處理:惡臭(chòu)氣(qì)體無(wú)需進行特殊的預處理,如加溫、加濕(shī)等,設備工作環境溫度在(zài)-30℃-95℃之(zhī)間,濕度(dù)在30%-98%、PH值在2-11範圍均可正常工作。

(2)無需添加任何物質(zhì):隻(zhī)需要設(shè)置相應的排風管道(dào)和排風動力(lì),使惡臭氣體(tǐ)通過UV光解除臭設(shè)備進行脫臭分解淨化,無需添加任(rèn)何物(wù)質參與化學反應。

(3)適應性強:可適應中低濃度,不同工業廢氣物質的脫(tuō)臭、淨化處理,可每天24小時連(lián)續工作,運行穩定可靠。

(4)運行成本低:無任何機械動作,無噪音,無需(xū)專人管理和日常維護,隻需作定期(qī)檢查(chá),設備能耗低,設(shè)備風阻低<50pa,可節約大量排(pái)風動力能耗。

(5)安全可靠:因(yīn)采用光解原理,模塊采取隔爆處理(lǐ),消除了安全隱患(huàn),防火、防爆、防(fáng)腐蝕性能高,設(shè)備性能安全穩定,特別適用於(yú)采油(yóu)(氣)田、石油化工、製(zhì)藥等防爆要求高的行業。

3.UV光解除臭設(shè)備應用範圍

UV光(guāng)解除臭設備適用(yòng)於:煉油廠、橡膠廠、化工(gōng)廠、製藥廠、造(zào)紙廠、屠宰廠、汙水處理(lǐ)廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭淨化處理。


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