1，半導體廢氣簡述

半（bàn）導體製造工（gōng）藝中需要使用（yòng）多種特殊氣體、大量的酸、堿等化學品以及有機溶劑和揮發性液體，這些氣體和化學（xué）品在半導體製造的不同工藝中使用，產生（shēng）酸性、堿性、有機（jī）廢氣（qì），這些廢氣如（rú）果沒有經（jīng）過處理直接排放，將造成嚴重的汙染問題，不僅影響人們的身體健康，惡化大氣環境，造成（chéng）環境汙染的公（gōng）害事件等，因此，必須對半導體廢氣進（jìn）行淨化處理後，達到大氣汙染物標準（zhǔn）排放。

1.1 半導（dǎo）體廢氣（qì）汙染物來源

（1）酸性/堿性工藝廢氣

酸性廢氣來源於工藝流程中使用的各種酸液和酸性氣（qì）體對芯片的腐蝕過程和清（qīng）洗過程，主要汙（wū）染物為氟化物、硫酸霧、氮氧化物、氯化氫；堿性廢（fèi）氣來源於刻蝕工序和工藝過程中使用的氨（ān）水（shuǐ）和氨氣，主要（yào）成分為氨。

（2）有機廢氣

有（yǒu）機（jī）廢氣汙染物丙酮（tóng）、甲醇、二甲苯和異丙（bǐng）醇來源於使用有機溶劑清洗和光刻過（guò）程。半導體製造工藝中使用的有機溶劑量比較大，因此，對有機廢氣處理采取單獨處理設備。

（3）特殊氣體工藝尾氣

特（tè）殊氣體工藝廢氣是指在氧（yǎng）化（huà）、擴散、CVD沉積、離子注入、幹法刻蝕等工序（xù）中產（chǎn）生的微量矽烷、磷烷、硼烷、以及CLa、CF4。

2.半導體廢氣處（chù）理方法

2.1 半導體工藝尾氣處理

（1）摻雜（zá）氣體（tǐ）工藝尾氣處理

在集成電路芯片（piàn）的（de）加（jiā）工過程中，摻雜氣體（tǐ）工藝尾氣主要來自擴散、CVD沉積、離子注入工序，尾氣中含有微量矽烷、磷烷、三氯化硼、硼烷等特殊氣（qì）體。

為防止出現工藝尾氣中特殊氣體的排放濃度突然增大的（de）情況和其它意（yì）外突發（fā）情況，確保工藝尾氣的安全處（chù）理效果，經源頭處理後的工藝尾氣再經有機廢氣處理係統和酸性廢氣處理係統處理後排（pái）放。

即要求擴散爐、強束流離子注入機、低（dī）濃度離子注入機、CVD機配套工藝尾氣（qì）淨化裝置，工藝尾氣（qì）再經有（yǒu）機廢氣處（chù）理（lǐ）係統和酸性（xìng）廢氣處理係統處理後排放。

半導體芯片廠一般配套的工藝尾（wěi）氣淨化裝置（zhì）采用燃燒法處（chù）理（lǐ）這些廢氣，並且將燃燒過的排氣再經有機廢氣處理係統和酸性廢氣處理（lǐ）係統作進一步處理。

燃燒後的SiO2、PO等顆粒物沉澱（diàn），燃燒產生（shēng）的尾氣納入（rù）酸性廢氣處理係統，可被（bèi）堿液噴淋吸收淨化處理。

（2）幹法蝕刻工藝尾（wěi）氣處理

幹法刻蝕使用氯氣、四氟化碳等全氟化物（PFCs），大部分氯氣和全氟（fú）化物轉（zhuǎn）化為氯化氫和氟化物（wù），未反應部分經配套的工藝尾（wěi）氣淨化裝置處理，再經有機廢氣處理係統和酸性廢氣處理係統處理後排放。一般對（duì）氯氣和全氟化物（wù）工藝尾氣采用化學吸附法（fǎ）處理。

2.2 半導體工藝廢氣處理

（1）酸（suān）堿性廢氣處理方法

對清洗槽產（chǎn）生的酸堿（jiǎn）廢氣、含氟廢氣以及預處理後的廢氣，輸送（sòng）進入酸堿洗（xǐ）滌塔，通過酸堿中和法將半導體製造工（gōng）藝中的酸性堿廢氣、含氟廢氣去除，達到環保排放的要求。

酸（suān）堿洗滌塔屬於（yú）微分接觸（chù）逆流式（shì），塔體內的（de）填料是氣液兩相接觸的基本構件。塔體外部的氣體進入塔體後，氣體進入填料層，填料層上有來自於頂部的噴淋液體及前麵（miàn）的噴淋液體，並在填料上形成（chéng）一層液膜，氣體流經（jīng）填料空隙時，與填料（liào）液膜接觸並進行吸收或中和反應，填料層能提供足夠大的表麵積，對（duì）氣體流動又不致造成過大的阻力（lì），經吸收或中和後的氣體經除霧器收集後，經（jīng）出風口排出塔外。廢氣由風機自風（fēng）管吸入，自下而上穿過填料層循環水由塔頂通過液體分布器，均勻地噴（pēn）淋到填（tián）料層中（zhōng），沿著填料（liào）層（céng）表麵向下流動，進入循環水箱。由於上升氣流和下降（jiàng）吸收劑在填料中不斷接觸，上升氣流中流質的濃度越來越（yuè）低（dī），到塔頂時達到排放（fàng）要求。液膜上的液體在重力作用下流入循環水池，並由循環泵抽出循環（huán）。噴淋塔上段配備有除霧係統，淨化後的氣體通過除（chú）霧器的（de）彎曲通道，在慣性力及重（chóng）力的作用下將氣流中（zhōng）夾（jiá）帶的液滴分離出來，處理後（hòu）的廢氣（qì）以（yǐ）一定的速度流經（jīng）除霧（wù）器，廢氣被快速、連續（xù）改變運動（dòng）方向，因離心力（lì）和慣性的作用，廢氣內的霧滴撞（zhuàng）擊到除霧器葉片上被捕集下（xià）來（lái），霧滴匯集（jí）形成水（shuǐ）流，因重力的（de）作用（yòng），下落至漿液池內，實現了氣液分離，使得流經除霧器的廢氣達到除霧要求後排出。

（2）有機廢氣處理方法

清洗槽、光刻機、去膠機等產生的有機廢氣（qì），然而對於有機廢氣處理方法有很多種，常見主要有活性炭吸附法、燃燒（shāo）法、UV光解淨化法等（děng），接下來（lái），天浩洋環保小編詳細介紹半導體有機廢氣處理方法。

① 活性炭吸附法

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、矽（guī）膠、分子篩（shāi）等）來處理（lǐ）有機廢氣（qì），這樣就能夠通過化學鍵力或者是分子引（yǐn）力充分吸附有害成分，並且將其吸附在吸附劑（jì）的表麵，從而（ér）達（dá）到淨（jìng）化有機廢氣的目的。吸附法目前主要應用於大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物（wù）、無（wú）粘性物、常（cháng）溫的低濃度有機廢（fèi）氣淨化處理。

活性炭淨化率高（活性炭（tàn）吸附可（kě）達到95%以上），實用遍及，操縱簡單，投資（zī）低。在吸（xī）附飽和以後需要更換新的活性炭，更（gèng）換（huàn）活性炭需要費用，替換下來的飽和以後的（de）活性炭也是需要找專業人員進行危（wēi）廢處理，運行費用高。

② 燃燒法

燃（rán）燒法隻在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件（jiàn）下進行完全燃燒，分解（jiě）為CO2和H2O。燃燒法適用於各類有機廢（fèi）氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化燃燒。

排放濃度大（dà）於5000mg/m³ 的高（gāo）濃度廢氣一般采用直接燃燒法（fǎ），該方法（fǎ）將VOCs廢氣（qì）作為燃料進行燃燒，燃燒（shāo）溫（wēn）度一般控製在1100℃，處理效（xiào）率高，可以達到95％一（yī）99％。

熱力燃燒法適合於處理（lǐ）濃度在（zài）1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力燃燒法，廢氣中VOCs濃度較低，需要借助（zhù）其他燃料或助（zhù）燃氣（qì）體，熱力（lì）燃燒（shāo）所需的溫度較直接燃燒（shāo）低（dī），大約（yuē）為540—820℃。燃燒法處理VOCs廢氣處理效率高，但VOCs廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接外排會導致二次汙染。

通過熱（rè）力燃燒（shāo）或者催化燃（rán）燒法（fǎ）處理有機廢氣，其淨化率是比較高的（de），但是其投資運營成本極高。因廢氣排放的（de）點多且分散，很難實現（xiàn）集中收集。燃燒裝置需要多套且需要很大的占地麵積。熱力燃燒比較適合（hé）24小時連續不斷運行且濃度較高而穩定的廢氣工況，不適合間斷性的生產產（chǎn）線工況（kuàng）。催化燃燒的投資和運營費用相對熱力（lì）燃燒較低，但淨化效率也相（xiàng）對較低一（yī）些；但貴金屬催化（huà）劑（jì）容易因為廢氣中（zhōng）的雜質（zhì）（如硫（liú）化（huà）物（wù））等造成中毒失效，而更換（huàn）催化劑的費用很高；同時對廢氣進（jìn）氣條（tiáo）件的控製非常嚴格，否則（zé）會造成催化燃（rán）燒室堵塞而引起（qǐ）安全事（shì）故。

③ UV光解淨化法

UV光解淨化法利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧（即（jí）活性氧），因遊離氧所攜帶正（zhèng）負電子不（bú）平衡所以需與氧分子結合，進而（ér）產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭（chòu）氣體進行協同光解氧化作用，使有（yǒu）機（jī）廢氣、惡臭氣體物質（zhì）降解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨（jìng）化法（fǎ）具有高效處理效率，可達到95%以上；適應性（xìng）強，可適（shì）應中低濃度，大氣量，不同有機（jī）廢氣以及惡（è）臭氣體（tǐ）物質的淨化處理；產品性能穩定，運行穩定可靠，每天可24小時連續工（gōng）作；運行成本低，設備耗能低，無需專人管理與維護，隻（zhī）需作定期檢查。UV光解法因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱（yǐn）患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，特別適用（yòng）於化工、製藥等防爆（bào）要求高的行（háng）業。

以上關於半導體廢氣處理方法介紹，希望可（kě）以幫到您，其實對於半導體廢氣（qì）處理，一般（bān）是需要根據廢氣的濃度、產生（shēng）量（liàng）、廢氣成分（fèn）、如何收集等方麵進行設計。如果您有半導體廢氣需要淨化處（chù）理，可以隨時撥打400-808-2272電話，谘詢天浩洋環保,為您提供半導體廢（fèi）氣處理（lǐ）方案及設備。