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離子除臭裝置

離(lí)子除臭裝置

離子除臭裝置是利用這(zhè)些高能(néng)電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙染物分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種(zhǒng)環保設備。
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  • 產(chǎn)品(pǐn)概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍(wéi)

產品概述 Product description

產品概述

離(lí)子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子(zǐ)在(zài)短的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設備。




技術原理(lǐ) technology principle

產品概述

  首先廢氣經(jīng)均流板過(guò)濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻(pín)放電,瞬(shùn)間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於(yú)鍵能較弱(ruò),約束力較(jiào)小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子等。這些強氧化基(jī)團與廢氣分子充(chōng)分(fèn)接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等(děng)離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分(fèn)子鍵斷裂重組,使難處理的汙(wū)染(rǎn)物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體(tǐ)化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等離子(zǐ)體反應過程可以看出,電子先從電場(chǎng)獲(huò)得能量,通過激發或電離將能量轉(zhuǎn)移到汙染(rǎn)物分(fèn)子中去(qù),那些獲得能量的汙染物分子被激發,同(tóng)時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性(xìng)基團與活性基團之間相互碰撞後生成(chéng)穩定產物和(hé)熱。

另外(wài),高(gāo)能電(diàn)子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親(qīn)和力較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子(zǐ)。這類負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學反應中起著重要的(de)作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫(wēn)等離子體(tǐ)中,電子能量(liàng)高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作(zuò)簡單,無需派專職(zhí)人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設(shè)備啟動(dòng)、停止十分迅速(sù),隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解(jiě)廢氣淨化設備適(shì)用範圍

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