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等(děng)離子除臭設備

等離子(zǐ)除臭設備

等離子除臭設(shè)備是利用(yòng)這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達(dá)到降解汙染物的(de)目的的一種(zhǒng)環保設(shè)備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能(néng)優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概(gài)述

等離子除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的(de)汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內(nèi)發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過(guò)濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子(zǐ)由(yóu)於鍵能較弱,約束(shù)力較小。很容易被擊穿化學鍵破(pò)裂,從而變成(chéng)小分(fèn)子化合(hé)物,此為第一階段淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的水分子(zǐ)、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等(děng)。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用(yòng)率高,淨化(huà)效(xiào)率非常高。

等離(lí)子功能段可以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組(zǔ),使難處理(lǐ)的汙染物(wù)降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學(xué)反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程(chéng)可以看出,電子先從電場獲得(dé)能量,通過激(jī)發或電離將能量(liàng)轉移到汙染物分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染物(wù)分子被激發,同時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這(zhè)些活性基團(tuán)與氧氣、活性基(jī)團與活性基(jī)團之間相互碰撞(zhuàng)後生成穩(wěn)定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要(yào)的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質阻擋放電產生的低(dī)溫等離子體中,電(diàn)子能量高,幾乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接接觸,根本上(shàng)解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無(wú)需派專職人員看(kàn)守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用(yòng)範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠、石油化工、農藥廠、製(zhì)藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼(sì)料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用(yòng)範圍

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