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等離子(zǐ)除臭設備(bèi)

等離子除臭設備

等離子除臭設備是利(lì)用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使(shǐ)汙染物分子在短的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一種(zhǒng)環(huán)保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

等離(lí)子除臭設備是利(lì)用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的的一種環(huán)保設(shè)備(bèi)。




技(jì)術原(yuán)理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過濾棉(mián)進入設備時,由設備高(gāo)壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於鍵能較弱,約(yuē)束力較小。很容易被擊(jī)穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第(dì)一階段淨化。

其次,隨廢氣(qì)進入設備的水(shuǐ)分子、氧分(fèn)子被高壓擊穿斷裂,生(shēng)成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快(kuài)反應進(jìn)程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離(lí)子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分(fèn)子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理(lǐ)的汙染物降解為較易處(chù)理的低碳汙染物(wù)。








等離(lí)子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能(néng)量,通過(guò)激發或電離將能量轉移到汙染物(wù)分子中去,那些獲得能量(liàng)的(de)汙染物分(fèn)子被激發,同時有部分分子被電(diàn)離,從而成為活性基團。然後這(zhè)些(xiē)活性基團與氧氣、活性(xìng)基(jī)團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的物質俘獲,成(chéng)為負離子(zǐ)。這類負離(lí)子具有很(hěn)好的化學活性,在(zài)化學反應中起著重要的(de)作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不(bú)受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不(bú)直接接(jiē)觸(chù),根本上解(jiě)決了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專(zhuān)職人員看守,基(jī)本不占用人工費(fèi);

  • 05

    設備啟動(dòng)、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣(qì)溫的影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施,以及製藥廠(chǎng)、油漆廠(chǎng)、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業場(chǎng)所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

在線留(liú)言

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