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離子除臭(chòu)裝置

離子(zǐ)除臭裝置

離子除臭裝置是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環(huán)保設備。
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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範(fàn)圍

產品概述(shù) Product description

產品概述

離(lí)子除臭裝置是利用(yòng)這些高能電(diàn)子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首先廢氣經均流板過(guò)濾棉進入設備時,由(yóu)設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓(yā),擊穿(chuān)廢(fèi)氣。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂(liè),生成強氧(yǎng)化基團羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團與廢氣分(fèn)子充分接觸氧化,加快反應進程(chéng)。整個反應幹淨,能量利(lì)用率高,淨(jìng)化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能(néng)量,促使長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化(huà)學(xué)反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從(cóng)等離子體反應過程(chéng)可以看出,電子先從電場(chǎng)獲得能量,通過激發或電離將能量(liàng)轉移到汙染(rǎn)物分子(zǐ)中去,那(nà)些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性(xìng)基團。然後這些活性基團與氧(yǎng)氣、活性基團與活性基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素和氧(yǎng)氣等電子親和力較(jiào)強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有(yǒu)很好的化學活性,在化學(xué)反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用(yòng);

  • 02

    反應快(kuài),不受氣速限製,氣阻小(xiǎo),工(gōng)藝(yì)成(chéng)熟;

  • 03

    采用防腐(fǔ)蝕材料,電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無(wú)需派專職人員看守,基本不占用人工(gōng)費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速(sù),隨(suí)用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用(yòng)範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥(yào)廠、製藥廠(chǎng)、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用(yòng)範圍

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