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等離子除臭設備

等(děng)離子除臭(chòu)設備

等離子除臭設備是利(lì)用這些高能(néng)電(diàn)子(zǐ)、自由基等(děng)活性(xìng)粒子(zǐ)和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的(de)一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

等離子除(chú)臭(chòu)設備(bèi)是利用這些高能電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染(rǎn)物分子在短(duǎn)的時間內發生分(fèn)解,以達到降解汙染物(wù)的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬(wàn)伏特至2萬伏特高(gāo)壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱(ruò),約束(shù)力(lì)較小。很容易(yì)被擊穿化學鍵破裂,從(cóng)而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨(suí)廢氣進入設備的水(shuǐ)分子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團與廢氣分(fèn)子充分接(jiē)觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非(fēi)常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷(duàn)裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處(chù)理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離(lí)子(zǐ)體反應過(guò)程可以看出,電子先從電場獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有(yǒu)部分分子被電離,從而成為活性基團。然(rán)後這些(xiē)活性基團與氧氣、活性基團與活性基團(tuán)之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電(diàn)子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負(fù)離(lí)子。這(zhè)類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中,電(diàn)子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接(jiē)接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣(qì)溫的(de)影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印(yìn)刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨(jìng)化設備適用範(fàn)圍

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