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離子除臭裝置

離子除臭裝置

離子除臭裝(zhuāng)置是利用(yòng)這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分(fèn)子在(zài)短的時間內發生分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的(de)的一種環(huán)保設(shè)備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述(shù)

離子除(chú)臭裝置是利用這(zhè)些(xiē)高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和(hé)廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的(de)的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首(shǒu)先廢氣經均(jun1)流板過濾棉進(jìn)入(rù)設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻(pín)放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於鍵能較弱,約束(shù)力較小。很容易被擊穿(chuān)化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子(zǐ)化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水(shuǐ)分子、氧分子被高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧(yǎng)化基團羥基、臭氧分子(zǐ)等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常(cháng)高。

等離子功能段可以激發汙染物(wù)能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處(chù)理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量(liàng)轉移到汙染物分子中去,那些獲得能(néng)量的汙染(rǎn)物分子被激(jī)發,同時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基(jī)團與氧氣、活性基團與活性基團之(zhī)間相互碰撞後生成(chéng)穩(wěn)定產物(wù)和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反(fǎn)應中起著(zhe)重要的作用(yòng)。






性能(néng)優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中(zhōng),電子能量高(gāo),幾(jǐ)乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防(fáng)腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題(tí);

  • 04

    隻需(xū)用電,操(cāo)作簡(jiǎn)單,無需派專(zhuān)職人(rén)員看守,基本不占用人工(gōng)費;

  • 05

    設(shè)備(bèi)啟動、停止十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受氣溫(wēn)的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施,以及製藥廠、油(yóu)漆廠、塗料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍(wéi)

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